E04600 - SEMI E46 - イオン移動度分光計（IMS）を使用したミニエンバイロメントからの有機汚染分析の試験方法 StdTpc-Wafer Edge Profile 5 The purpose of this

5  The purpose of this Standard is to provide Wafer Job Management Job Object (WJMJOBJ) model so that the information that should be managed in conjunction with the WJMJ can be encapsulated in the object and can be accessed from the host

本スタンダードが意図しているのは，すべてのメカニカルインタフェースにおいて，モジュール性と互換性を確保しながら，技術革新を妨げないよう最小レベルの仕様を定めることである。FOBITに対するメカニカルインタフェースだけが規定されており，材料に対する要求事項やパーティクルなどの汚染限度は示されていない。しかしながら，金属製や射出成型プラスチック製のFOBITの両方がスタンダードに準拠して製造できるように，本スタンダードは作成されている。

SEMI G86-0303 (first published)

the sum of the peak height Zp and the valley depth Zv are reported

E04600 - SEMI E46 - イオン移動度分光計（IMS）を使用したミニエンバイロメントからの有機汚染分析の試験方法 StdTpc-Wafer Edge Profile 5 The purpose of thisNOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI SEMI Metrics Global Technical Committee200118global Audits and Reviews Subcommittee20072www. semi. org199520013 NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not